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高兆兰讲座十一(10月31日 15:00-16:30)

报告人: 
任文才 研究员(中科院沈阳金属所)
题目: 
Graphene Films: CVD Growth and PromisingApplications
地点: 
十友堂300
时间: 
10月31日 15:00-16:30

主持人:赖天树教授

报告简介:为了使石墨烯的面内性质能够最大程度的在宏观尺度应用,石墨烯薄膜是至关重要的。石墨烯薄膜能够直接由化学气相沉积(CVD)生长或由石墨烯/氧化石墨烯纳米薄片组装。本报告中将首先介绍CVD生长的石墨烯薄膜的颗粒尺寸和层数控制、掺杂和清洁转移,演示石墨烯薄膜在柔性OLED中的应用。然后,介绍具有可控排列和密实的氧化石墨烯薄膜的合成,演示它们在高性能纳米过滤膜,超强高导电纸,电磁干扰屏蔽膜和具有创纪录的体能密度柔性超级电容方面的应用。

报告人简介:任文才,中国科学院金属研究所研究员,国家杰出青年科学基金获得者。主要从事石墨烯等二维材料的制备及其在光电、储能、复合材料等领域的应用研究。在Nature Materials等期刊发表SCI论文130多篇,被SCI引用22,000多次,是材料领域高被引学者;获授权发明专利40余项(含4项国际专利),2项已产业化。曾获国家自然科学二等奖(2017,2006)、何梁何利基金科学与技术创新奖、辽宁省自然科学一等奖、中国青年科技奖、中国科学院青年科学家奖等奖项,并入选了科技部创新人才推进计划中青年科技创新领军人才和“国家级人才项目”科技创新领军人才。